В Сколтех произошел значительный прорыв в фотонной области: вместо единичных прототипов перешли к массовому производству фотонных микросхем, где передача информации осуществляется световыми лучами, а не электрическими импульсами. Для этого научные лаборатории и производственные цеха по фотолитографии, травлению и осаждению оптических покрытий были объединены. Собственное предприятие позволяет сохранять размеры волноводов и микрорезонаторов с нанометровой точностью, что ускоряет выпуск готовой продукции.
Чтобы уменьшить процент брака при sériesном изготовлении, инженеры внедрили автоматизированный контроль конфигураций элементов и стандартизированные технологические схемы. Это обеспечили однородные показатели качества в разных партиях. В мае 2026 года Сколтех объявил о запуске первого в стране контрактного производства фотонных чипов по процессу «кремний‑на‑изолятор» (SOI).
Производство реализуется в формате многопроектного титра (MPW), при котором в одном проходе одной пластины создаются схемы для разных заказчиков. Такой подход существенно снижает себестоимость готовой продукции. Российские и иностранные компании получат возможность получать прототипы и небольшие партии микросхем, выполненные по промышленной CMOS‑совместимой технологии. Первая партия фотонных интегральных схем запланирована на первый квартал 2027 года.
Фотонные микросхемы находят применение в высокоскоростных оптических сетях, оптических вычислительных системах, искусственном интеллекте и сенсоторных устройствах. По мнению экспертов, Россия обладает всеми предпосылками для того, чтобы возглавить данную отрасль.