Москва собирается предпринять следующий этап в построении собственной микроэлектроники. Как сообщает заместитель премьера РФ Денис Мантуров, в 2027 году ожидается запуск отечественной литографической машины, способной изготавливать микросхемы по технологии 130 нм.
По словам чиновника, к 2025 году отечественные инженеры уже разработали литограф, работающий при 350 нм, а дальше планируется перейти к более современной производственной платформе. При этом особое внимание уделяется тому, что весь аппарат создан без привлечения иностранных поставщиков.
Учитывая ограниченный доступ к зарубежным технологиям, этот проект выглядит одним из главных для всей отечественной микроэлектроники. Литографические установки являются фундаментальными элементами производства микросхем, их создание требует колоссальных финансов и человеческих ресурсов. Поэтому такие разработки сегодня реализуют лишь несколько государств.
Однако не следует трактовать технологию 130 нм исключительно через призму современных процессоров, предназначенных для конечных пользователей. Хотя такие мощности действительно применялись в массовых чипах Intel и AMD начала 2000‑х годов, они до сих пор востребованы в промышленной электронике, телекоммуникационных устройствах, автоснабжении и системах автоматизации, где надежность часто важнее пиковой производительности.
Денис Мантуров подчеркнул, что в будущем Россия будет стремиться к более тонким техпроцессам, хотя для этого потребуется время. Тем не менее факт появления собственного литографа на уровне 130 нм может стать значимым событием для отрасли и свидетельствовать о постепенном приносе конкретных результатов от инвестиций в национальную микросхемную базу.